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allbet开户:Intel承认在EUV曝光上犯错:当年太自信

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最近几年,台积电及三星在半导体工艺上超越了Intel,后者在14nm节点之前都是全球最先进的半导体公司,然而在10nm节点面临各种困难,给了对手可乘之机。Intel在这个过程中是如何被超越的?CEO格尔辛格日前接受了采访,特别提到了Intel在EUV曝光技术上的选择错误。

在EUV技术研发上,Intel是全球重要推手,ASML研发EUV曝光机也得到了Intel的不少帮助,但是Intel在10nm节点没有选择EUV曝光,而是尝试了新的SAQP四重曝光技术。当初Intel的目标是不依赖EUV曝光机,也能靠自力生产先进制程。

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格尔辛格表示,当初这个目标是很好的,然而SAQP曝光工艺非常复杂,成本高,随着时间的延续,Intel站在了EUV错误的一边,格尔辛格表示,鸡蛋不用放在同一个篮子里,当时Intel应该至少有一个平行的EUV战略才对。

格尔辛格所说的这个事,其实就是过去几年中Intel在10nm制程上多次跳票的关键,这两年才算是搞定了10nm的量产,现在改名为Intel 7。

至于EUV技术,Intel现在也重视起来了,跟ASML的合作很好,今年底量产的Intel 4就是Intel首个EUV技术产品,用于首发量产第14代Meteor Lake,明年上市。

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